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MLA 100 無掩模光刻儀
 
   
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MLA 100 無掩模光刻儀

MLA100的應用領域包括生命科學,微機電系統,微光學,半導體,傳感器,執行器,微光機電系統,材料研究,納米管,石墨烯,這任何一項應用都需要微光顯示結構。

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MLA100 無掩模光刻

 

     

                     

以實惠的價格,重點是高性能設計,MLA100是許多研發應用的完美光刻方案。該光學系統被設計以50平方毫米/分鐘直接進入光致抗蝕劑的速度來寫結構下降到1微米,而無需光掩模。光掩模從光刻工藝消除會增加靈活性和顯著縮短成型或制造周期。該MLA100由曝光向導(GUI)控制通過完整的程序引導操作員來操作:加載基底,選擇設計和開始曝光。隨著60x1875px2的足跡MLA100的設計,以適應甚至到最小的研發實驗室,并且只需要操作提供電源和壓縮空氣。

 

MLA100應用領域包括生命科學,微機電系統,微光學,半導體,傳感器,執行器,微光機電系統,材料研究,納米管,石墨烯,這任何一項應用都需要微光顯示結構

 

主要特征:

寫速度 50mm^2/min

最小基板尺寸  6”x  6”

曝光區域 100×100mm^2

最小結構  1um

高功率LED光源

SLM基于光引擎

多種數據輸入格式

基本灰度曝光模式

對準攝像系統

實時自動對焦

最優化的曝光向導

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