產品分類

瀏覽過的商品

DWL66+

DWL66+激光光刻系統是一個經濟的,高分辨率模式發生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統,生物微機電,微光學,專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術,還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發。

重要特征選項

最大基板尺寸9x  9

最小描繪尺寸0.6um

最小描繪網格10nm

先進的灰度曝光模式

實時的自動對焦系統

客戶特定激光

矢量和柵格曝光模式

可交換的寫模式

攝像系統計量和校準

前后面對齊

人工氣候室

多種數據輸入格式

用戶編程接口

技術參數

寫入模式

1

2

3

4

5

6

地址網格(nm)

10

20

25

50

100

200

最小結構大小(um)

0.6

0.8

1

2

4

7

寫速度(mm^2/min)

6

25

39

145

500

1000

邊緣粗糙度(3σ,nm)

50

70

80

110

160

240

線寬均勻度(3σ,nm)

60

80

100

180

250

500

線條測量精度(3σ,nm)

100

120

150

250

400

800

?

總共找到3個商品
腾讯彩票老鬼